性能特點(diǎn)如下:ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據二(DC)直流濺射原理設計而成的,*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。
適用于電鏡實(shí)驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣制備,非導體材料實(shí)驗電制作。
*主要特點(diǎn):1. 配置有樣濺射室空表和濺射電流表,用以指示、監控儀器狀態(tài);
2. 濺射電流調整控制器、微型空氣閥。在工作時(shí)結合內部自動(dòng)控制電路很容易控制空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體,獲得*佳鍍膜效果;
3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長(cháng)期使用不會(huì )出現影響樣濺射室空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象;
4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的經(jīng)久耐用;
5. 根據電場(chǎng)中氣體電離特性,采用大容量樣濺射空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層均勻純凈。
技術(shù)參數:*配置參數如下:1、靶(上部電):金:直徑:50mm,厚度:0.12mm
2、空樣室: 直徑:160mm,高:120mm
3、濺射面積: Ф50mm,*大放置
4、空指示表: *高空度:≤ 4X10-2 mbar
5、離子電流表: *大電流:50mA(100mA)
6、定時(shí)器: *長(cháng)時(shí)間:900S
7、微型空氣閥: 可連接φ3mm軟管
8、可通入氣體: 多種
9、*高電壓: -1600(-3000)DCV
10、機械泵: 2L/S
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